説明：
API 5000™ LC/MS/MSシステムは広い線形ダイナミックレンジを有し、比類のない定量分析感度を有し、特に複雑なマトリックス中の低濃度成分の定量分析に適し、業界標準のAPI 4000より™ システムにはより高い感度があります。小分子化合物を定量分析する場合、非常に高い精度と再現性を提供することができる。
DMPKとADME研究の高感度要件を満たすために、API 5000™システムは新しいQjetをインストールしました™イオン導入フォーカス装置と技術完備のターボV™イオン源、および強力な次世代Analyst® ソフトウェアは、薬物開発研究の各段階に適した耐久性、高スループット分析のプラットフォームを形成し、より高いレベルの定量性能を持っている。

利点：

• 低検出限界

革新的なQJet™イオン導入技術は非常に低い検出限界を得ることができ、QJetイオン導入技術、TURBO VTMイオン源、および強力な次世代Analystを集合させることができる® ソフトウェアは、薬物開発の各段階に適した耐久性と高スループットの分析プラットフォームになる

• 交差汚染の除去

革新的なQJetイオン導入より多くのTURBO V™イオン源から発生するイオンは、感度を大幅に向上させた。高濃度サンプルについても、TURBO V™イオン源も交差汚染を根本的に除去することができる。

• 柔軟なオプションでスループットを向上

オプションのDuoSpray™イオン源は高速方法：TurboIonSprayを有するフラックスを開発し、向上させるための理想的なツール®イオン源とAPCIの2つのインタフェースは、液相運転中の各化合物に対して、コンピュータ制御を利用してイオン化パラメータを最適化することができる。もう1つのオプションは、大気圧光イオン化PhotoSpray® ソース、分析の可能性を高めました。

• 無人高スループット操作

API 5000™システム伝承AB SCIEXの耐久性と信頼性に優れた三重四重極ロッド技術を採用し、自動化特性により法規高フラックス実験室で連続的な高負荷作業を可能にした。

質量スペクトルに接触したばかりであっても、API 5000™システムにより、簡単に答えを得ることができます。自動方法の開発から迅速で簡単な通常のメンテナンスまで、API 5000™システムは強力なだけでなく、非常に使いやすい三重四極ロッドでもある。

• オプションのDuoSpray™イオン源：迅速な方法開発と分析フラックスの増加
• オプションのPhotoSpray® イオン源：機器の応用分野を拡大